저온 그래핀 합성 및 터치스크린 개발
기관명 | NDSL |
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작성자 | 글로벌 과학기술정책 정보서비스 |
작성일자 | 2011-03-21 00:00:00.000 |
내용 | 일본 연구진이 300-400 ℃ 저온에서 대면적의 (23cm X 20cm) 그라핀에 기초한 투명 전도성 필름을 효율적으로 합성하는 기술을 개발하였다 . 이 필름은 이중층 그라핀 시트로 이루어져 있으며 이를 터치패널 제작에 활용하는데 성공했다 . 그라핀 성장 단계 이전에 , 30 μ m 두께의 구리 호일 , 30 μ m 두께의 알루미늄 호일에 Ar/H2 플라즈마를 인가하여 표면의 오염물질을 제거하였고 , 메탄과 수소 및 아르곤 혼합물을 사용하여 180 초 이하로 그라핀을 신속히 성장시켰다 . 아르곤 첨가시 안정성과 균일성이 향상되었다 . |
출처 | |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=TREND&cn=ARTI-00000000974 |
첨부파일 |
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