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장비 및 시설 기본정보

오스뮴코터

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 Meiwafosis
모델명 NEOC-ST
장비사양
취득일자 2004-05-31
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국과학기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C506
표준분류명 시험
시설장비 설명 주사전자현미경으로 관찰하는 시료의 Charging 방지에는 CVD-오스뮴코팅이 효과적이다. 생물과 무기화합물 등 전도성이 없는 시료는 대전방지처리후 SEM으로 관찰하는데 종래에는 진공증착 혹은 Ion coater로 시료표면에 Au, Pt를 코팅하여 가전했으나 복잡한 형상의 시료에 대해서는 충분한 효과를 보지 못했다. 이에 반하여 CVD에 의한 오스뮴 코팅법은 그 어떤 시료에도 극히 얇은 코팅으로 최상의 전도성을 부여한다. 피착한 Os 입자는 Au, Pt와 같은 결정화에 의한 입자성장이 없고 초고배율로 올라갈수록 월등한 효과를 보인다.
장비이미지코드 http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201401/20140108181837574.jpg
장비위치주소 한국과학기술연구원 연구동(L5)
NFEC 등록번호 NFEC-2014-01-184851
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0054820
첨부파일

추가정보

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과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)