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진공 스파터링 쳄버 제작

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보유기관명	한국원자력연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	F0
표준분류명	생산
시설장비 설명	1. 특징 - 기판 위에 니켈 박막을 증착하기 위한 고진공 소형 쳄버 2. 구성 및 성능 - 박막 증착방식 : 마그네트론 스파터링 방식 (2 타겟건) DC 및 RF 스파터링 가능 - 최대 도달진공도 : 1 x 10^-7 mbar (Rotary pump + cryo pump 이용 시) - 박막 증착 진공도 : 1 x 10^-4 mbar (MFC 및 Throttle valve 이용 시) - 기판 홀더 : 스탭핑 모터를 이용한 회전방식 9IR 센서 이용) - 최대 기판 크기 : 300 mm x 200mm - 장치 제어 : PC interface, full automation - 박막 균질도 : =/- 3 % 3. 활용 분야 - 중성자 산란장치 및 중성자 유도관에 사용되는 중성자 거울 제작. - 기판(float glass)위에 니켈(Ni)을 증착함
장비이미지코드	https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201104/20110411110843.jpg
장비위치주소	한국원자력연구원 동위원소동
NFEC 등록번호	NFEC-2005-12-026809
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0056809
첨부파일

기업조회