박막증착시스템
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | (주)티티엘 |
모델명 | FabStar |
장비사양 | |
취득일자 | 2012-02-09 |
취득금액 |
보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C510 |
표준분류명 | 분석 |
시설장비 설명 | 각종 소자(센서 FET 등) 제작 시 CVD(Chemical vapor Deposition화학적기상증착)방법을 이용하여 SiO2 & Si3N4 증착 본원에서는 FET 소자 제작시 절연층 Si3N4층 박막 제조로 활용할 예정임. 또한 기판이 시편조각뿐만 아니라 6인치 웨이퍼까지 사용가능하도록 설계됨. |
장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201207/20120731152353.jpg |
장비위치주소 | 대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2012-07-168050 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201812171091 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |