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1. 보고서의 목적 ○ 특허행정 연차보고서는 산업재산권을 둘러싼 정책 현황과 방향성, 국내외 동향과 분석 및 통계정보 정리 등을 목적으로 하고 있다. 2. 주요 내용 가. 출원 동향 ○ 특허 출원건수 - 2010년의 특허 출원 건수는 2009년과 거의 같은 344,598건(2009년 대비 1.1% 감소)이다. 이러한 배경에는 최근의 경기 영향과 함께, 출원인이 특허 출원의 엄선을 실시해, 사업 전개의 핵심이 되는 질 높은 특허 출원을 목표로 하는 전략이 파급되고 있기 때문으로 보인다. - PCT 출원(특허 협력조약에 근거한 국제 출원) 건수를 보면, 2010년에는 32,148건(2009년 대비 7.9% 증가)이며, 2003년 이후 미국에 이어 세계 제 2위를 유지하고 있다. 이는 일본 기업의 활동이 한층 글로벌화되고 국제적인 지적재산권 보호의 중요성에 대한 인식이 높아진 것이 그 배경이라 할 수 있다. - 중국의 2010년의 PCT 출원 건수는 12,296건(2009년 대비 56% 증가)으로 세계 제 4위이다. ○ 특허 출원의 평균 청구항수의 추이 - 심사청구 건수는 큰 폭으로 감소한 2009년과 거의 같은 255,192건(2009년 대비 0.3% 증가)이다. - 심사 순서 대기 건수는 2010년말 시점에서 57.3만건(2009년 대비 20% 감소)으로 감소하였으며, 또 2009년까지 장기화의 경향을 보인 심사 순서 대기 기간은 2010년에 28.7개월로 단축되었다. ○ 의장·상표 출원 건수 - 2010년의 의장 등록 출원건수는 31,756건(2.9% 증가), 상표 등록 출원건수는 113,519건(2.4% 증가)으로 모두 2009년에 비해 증가하였다. 나. 지적재산 활동 실태 ○ 2010년의 특허 출원 건수를 업종별로 보면, 전기 기기에서 계속 감소하고 있다(2009년 대비 3.1%(3천건) 감소). 한편, 화학(6.5%(1.5천건) 증가), 기계(9.3%(1.4천건) 증가) 등 증가로 전환된 업종도 볼 수 있었다. ○ 한편, 2010년의 특허청 조사에 의하면, 기업 등의 지적재산 활동비는 2008년에 크게 감소하였지만, 다소 회복 조짐을 보이고 있었다. 다. 지적재산 활동에서의 정부의 대응 ○ 선행 기술 문헌 조사 외주의 확충·필요한 심사관의 확보 등 - 2010년의 선행 기술 문헌 조사의 외주 건수는 24.6만건(2009년 대비 5.6% 증가)으로 한층 더 민간 활력의 이용을 도모하였다. - 전자문서 시스템의 구축, 선행 기술 문헌 조사의 외주 등에 의해, 일본은 미국과 비교해 2.8배, 유럽과 비교해서는 4.5배 높은 효율로 특허 심사를 실시하고 있다. ○ 국제협력 추진 - 2011년 6월말 현재, 일본의 '특허 심사 하이웨이'의 대상 국가는 14개 국가·지역이며, 2011년 7월 1일부터는 멕시코와도 시행을 개시할 예정이다. - 목차 - 1. 산업재산권을 둘러싼 동향 2. 지적재산 활동에 대한 정부의 대응 3. 기업·대학 등으로의 지원 시책 4. 국제적인 동향과 대응 |
